據國外媒體報道，三星電子表示，已經開始在華城工廠建設一條新的半導體生產線，該生產線將生產7納米或更小的芯片。三星將投資60億美元到2019年完成的生產線上，并在2020年開始運營。三星公司將在開始運營時根據市場情況投入更多資金。

該公司表示，該工廠將安裝極紫外(EUV)光刻設備，這將有助于三星在超大規模集成方面保持技術領先地位。與目前使用的ArF燈相比，EUV燈具有更短的波長，并且將允許繪制尺寸小于10納米的芯片所需的更精確和更詳細的電路。

該公司將致力于滿足手機，服務器，網絡和HPC以及合同芯片制造客戶對高性能半導體的需求。三星的華城工廠與Giheung和Pyeongtaek的其他廠商一起，在韓國形成了“半導體集群”。它在德克薩斯州奧斯汀和中國西安也有工廠。

該公司正在與美國芯片巨頭高通公司合作開發一款采用7納米制程的5G移動芯片組。去年10月，三星開發了8納米工藝。去年三星在半導體產品線上的投資超過260億美元，這是有史以來的最高紀錄，這是由于內存芯片需求的增長。